首页 今日热点 行业动态 市场分析 机械百科
旗下栏目:

90%市场被国外厂商垄断 光刻胶国产化急需提速!

来源:ybtxys.com 作者:10博体育 人气:116 发布时间:2021-07-23 18:40
摘要:近年来,虽然中国在芯片设计领域有了突飞猛进的发展,涌现出了一批以华为海思为代表的优秀的芯片设计企业,但

一般来讲图形化主要包括光刻和刻蚀两大步骤,分别实现了从掩模版到光刻胶以及从光刻胶到晶圆表面层的两步图形转移,流程一般分为十步:1.表面准备,2.涂胶,3.软烘焙,4.对准和曝光,5.显影,6.硬烘焙,7.显影检查,8.刻蚀,9.去除光刻胶,10.最终检查。

责任编辑:10博体育
首页 | 今日热点 | 行业动态 | 市场分析 | 机械百科

Copyright © 2019 10博体育 版权所有  技术支持:10博体育_全国首选体育娱乐网站

网站地图